Оборудование для проверки интегральных схем в объеме полупроводника, сформированных на пластине до этапа резки пластины на отдельные кристаллы
https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobrbot ... voritelyah Сверхбольшая высокопроизводительная ремонтная станция
https://atomstroy-ng.ru/centrifuginanes ... orezistera Метод: ионное утонение Размер ионного пучка: до 1 мкм Переменное напряжение : 50 эВ - 2 кВ
https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika Цена: По запросу
https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii Установка плазмохимического травления
https://atomstroy-ng.ru/ustanovkatravleniya Установки для плазмохимического травления представляют собой оборудование, предназначенное для точного удаления материалов с поверхности путем химической реакции, активируемой плазмой
https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii Применяются в производстве микросхем и других полупроводниковых устройств, где необходимо строгое соблюдение технологических параметров
https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobrbot ... voritelyah
Оборудование для проверки интегральных схем в объеме полупроводника, сформированных на пластине до этапа резки пластины на отдельные кристаллы https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobrbotkiorganichrasvoritelyah
Сверхбольшая высокопроизводительная ремонтная станция https://atomstroy-ng.ru/centrifuginaneseniyafotorezistera
Метод: ионное утонение Размер ионного пучка: до 1 мкм Переменное напряжение : 50 эВ - 2 кВ https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Цена: По запросу https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Установка плазмохимического травления https://atomstroy-ng.ru/ustanovkatravleniya
Установки для плазмохимического травления представляют собой оборудование, предназначенное для точного удаления материалов с поверхности путем химической реакции, активируемой плазмой https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Применяются в производстве микросхем и других полупроводниковых устройств, где необходимо строгое соблюдение технологических параметров https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaobrbotkiorganichrasvoritelyah